{"id":3823,"date":"2013-12-09T12:08:13","date_gmt":"2013-12-09T12:08:13","guid":{"rendered":"http:\/\/blog.crit-research.it\/?p=3823"},"modified":"2015-06-12T15:48:11","modified_gmt":"2015-06-12T15:48:11","slug":"fraunhofer-ise-nuovi-record-di-efficienza-per-le-celle-solari","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/crit-research.it\/it\/tecnologia\/fraunhofer-ise-nuovi-record-di-efficienza-per-le-celle-solari\/","title":{"rendered":"Fraunhofer ISE, nuovi record di efficienza per le celle solari"},"content":{"rendered":"<p style=\"text-align: left;\">L\u2019Istituto Fraunhofer per i Sistemi ad Energia Solare (<strong>Fraunhofer ISE<\/strong>) segna un nuovo record nel settore del fotovoltaico, portando al 24% l\u2019efficienza delle celle solari al silicio di tipo N. Solo poche settimane fa, il Fraunhofer ISE, insieme a Soitec, CEA- Leti e all&#8217;Helmholtz Center di Berlino aveva stabilito un nuovo record mondiale assoluto per l\u2019efficienza di conversione delle celle fotovoltaiche, grazie allo sviluppo di una \u00a0cella solare a quattro giunzioni utilizzata nei\u00a0concentratori fotovoltaici e capace di raggiungere un\u2019efficienza del 44,7%. Il nuovo record stabilito in questi giorni dal Fraunhofer ISE riguarda invece le <strong>celle solari di tipo N<\/strong>, ed \u00e8 stato ottenuto grazie a uno speciale \u201ccontatto passivato\u201d che copre l\u2019intera superficie posteriore della cella.<\/p>\n<p style=\"text-align: left;\">Le celle solari al silicio comprendono due aree, con spessori diversi, per conduzioni differenti: N indica negativo, P positivo. Lo strato pi\u00f9 spesso, il materiale di supporto, viene considerato la <strong>base<\/strong> e determina il tipo di cella. Le celle solari tradizionali \u00a0presentano una base di tipo P e uno strato conduttivo N sottile, detto <strong>emittente<\/strong> o vettore di carica. Nelle celle solari di tipo N, l&#8217;emittente \u00e8 &#8220;dopato P&#8221;, tramite la diffusione di boro o l&#8217;aggiunta di alluminio.<\/p>\n<p style=\"text-align: left;\">La maggior parte delle celle solari al silicio attualmente disponibili sul mercato \u00e8 di tipo P e sono caratterizzate da un\u2019elevata efficienza, ma il nuovo silicio di tipo N mostra propriet\u00e0 migliori per quanto riguarda\u00a0 la tolleranza verso quasi tutte le impurit\u00e0. Inoltre, il silicio di tipo P \u00e8 pi\u00f9 vulnerabile alla degradazione indotta dalla luce, cosa che non si verifica con il silicio di tipo N.<\/p>\n<p style=\"text-align: left;\">Per qualche tempo, sono stati condotti esperimenti sul silicio di tipo N come materiale di base, ma la tecnologia di produzione era risultata molto complessa. Ad esempio, il problema principale nell&#8217;utilizzo delle celle solari di tipo N, in cui l&#8217;emittente si trova sul lato esposto al sole, era la <strong>passivazione dell&#8217;emittente<\/strong> stesso, trattato normalmente con aggiunta di boro.<\/p>\n<p style=\"text-align: left;\">Finora, le caratteristiche del lato posteriore della maggior parte delle celle solari rappresentavano un limite per l\u2019efficienza dei dispositivi, a causa della <strong>presenza di contatti<\/strong> proprio sulla superficie inferiore. Utilizzando un <strong>contatto \u201cpassivato\u201d<\/strong>, gli scienziati del Fraunhofer ISE sembrano avere superato questo limite tecnologico. Secondo Stefan Glunz, direttore della divisione \u201cSviluppo e caratterizzazione delle celle solari\u201d al Fraunhofer ISE, il contatto posteriore sviluppato per le nuove celle solari di tipo N \u00e8 molto semplice, senza alcun patterning, e consente di raggiungere un rendimento del 24%.<\/p>\n<p style=\"text-align: left;\">Il nuovo contatto posteriore, denominato <strong>Topcon (Tunnel Oxide Passivated Contact)<\/strong>, \u00e8 costituito da un tunnel ultrasottile di ossido e uno strato sottile di silicio. La passivazione superficiale \u00e8 di ottima qualit\u00e0 e il contatto posteriore offre una bassa resistenza per il trasporto dei portatori di carica. Questa nuova tecnologia, spiegano i suoi ideatori, permette di estendere il contatto all\u2019intera superficie posteriore della cella solare, riducendo al minimo le perdite di resistenza.<\/p>\n<p style=\"text-align: left;\">Il Fraunhofer ISE attualmente \u00a0sta continuando a sviluppare la tecnologia di processo per le celle solari di tipo N. Nel prossimo futuro \u00e8 prevedibile che le celle solari al silicio prodotte industrialmente raggiungeranno tassi di efficienza superiori al 20%.<\/p>\n<p style=\"text-align: left;\">Fonti:<\/p>\n<ul style=\"text-align: left;\">\n<li><a href=\"http:\/\/www.ise.fraunhofer.de\/en\/press-and-media\/press-releases\/presseinformationen-2013\/24-prozent-siliciumsolarzelle-auf-n-typ-material\">4 Percent Efficient n-Type Silicon Solar Cell &#8211; Top-notch European research raises potential for cost reductions in photovoltaics<\/a><\/li>\n<li><a href=\"http:\/\/www.ise.fraunhofer.de\/en\/press-and-media\/press-releases\/presseinformationen-2013\/world-record-solar-cell-with-44.7-efficiency\">World Record Solar Cell with 44.7% Efficiency<\/a><\/li>\n<li style=\"text-align: justify;\"><a href=\"http:\/\/it.rs-online.com\/uk\/img\/site\/campaigns\/eTech\/it_etech2_industrynews.pdf\">Fraunhofer ISE sviluppa nuove tecnologie fotovoltaiche<\/a><\/li>\n<\/ul>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>L\u2019Istituto Fraunhofer per i Sistemi ad Energia Solare (Fraunhofer ISE) segna un nuovo record nel settore del fotovoltaico, portando al 24% l\u2019efficienza delle celle solari al silicio di tipo N. 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